抗レジオネラ用空調水処理剤協議会

冷却水系とレジオネラ属菌について

建築物の冷却水は、空調用冷凍機の冷却等に用いられます。冷却水の水温は一般的に10 ~ 40℃であると言われています。 レジオネラ属菌の発育至適温度は36℃前後(発育可能温度は25 ~ 43℃)で、60℃まで は生存可能とされる。5月から9月にかけて冷却水の温度はレジオネラ属菌繁殖の最適温 度に近づきます。

1.冷却水系でのレジオネラ属菌の増殖

レジオネラ属菌は、自然界の土、河川水、井戸水、湖水に広く分布しています。そこでの検出率、菌数レベルは高くありません。 それに対して、冷却水系は溶存酸素も豊富であり、 温度、pHとも増殖する条件を満たしています。

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2.冷却水系でのレジオネラ属菌の生息環境

冷却水系内、特に冷却塔本体や配管壁面にスライム汚染やバイオフィルム(細菌類、原生動物などの微生物から分泌される粘性を帯びた付着物)が発生する環境は、レジオネラ属菌の増殖を助長していると考えられます。 従って、 スライムが発生している冷却水系はレジオネラ属菌が定着し、増殖する危険性が高い環境と言えます。

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3.冷却水系でのレジオネラ属菌の検出状況

 
冷却水系
河川等(参考)
登録薬剤処理系1) 無処理系1)河川、湖沼、湧水2)
調査機関2008年4月~
2009年3月
2008年4月~
2009年3月
1998年3月~
1998年12月
菌数(CFU3)/100ml)検体数割合(%) 検体数割合(%) 検体数割合(%)
不検出(1×101未満)9476881194 664191
1×101~1×102未満46742011100
1×102~以上 84084122349
合計10783100180710045100
  1. 抗レジオネラ用空調水処理協議会 2008 年度集計データ
  2. 参考文献:宮本幹、山口義夫、笹津備規、環境汚染15, 127-132, 2000
  3. CFU:集落形成単位(Colony Forming Unit)

最新の検出状況は、抗レジオネラ用空調水処理剤協議会ホームページ
http://www.legikyo.gr.jp/)に掲載しています。

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